SMILE平台设备推介：OPTORUN OTFC-1300CBI光学镀膜仪

 

OPTORUN OTFC-1300CBI 是专为 MEMS、光学器件及先进封装设计的全自动光学镀膜仪，支持 2-8 英寸晶圆及碎片衬底。设备采用电子束蒸发与离子辅助技术，通过真空环境下的物理气相沉积（PVD）实现高精度薄膜制备，可沉积金属、氧化物、氮化物等材料，膜厚均匀性≤±3%，真空度达 7.0×10⁻⁵ Pa。其核心技术包括 HOM2-R-VIS350A 光学膜厚监控仪（波长 350-1100nm）、双电子枪蒸发源及 17cm RF 离子源，适配硅、玻璃、蓝宝石等材料，广泛应用于 MEMS 压力传感器、微镜阵列及光学滤光片的量产与研发。

 

 

1.镀膜能力：
支持多层膜工艺（≥100 层），膜厚范围 5nm-2000nm，兼容 AR/AF 膜、分色滤光片等高阶光学涂层。
2.真空系统：
极限真空度 7.0×10⁻⁵ Pa，抽气时间 15 分钟（大气压至 1.3×10⁻³ Pa），配备扩散泵 + 深冷装置（Polycold）提升动态真空稳定性。
3.温度控制：
基板加热温度≤350℃，烘烤均匀性 ±10℃，支持高温工艺下的薄膜应力调控。
4.光学监控：
HOM2-R-VIS350A 膜厚监控仪（反射式 / 透射式）与 XTC/3+6 点水晶传感器协同工作，厚度控制精度≤±1%。
5.处理能力：
工件架直径 1130mm，转速 10-50rpm，单批次可处理 8 英寸晶圆 19 片，集成 CIM 系统实现全自动蒸镀流程。
6.材料兼容性：
适配硅、玻璃、陶瓷、金属及聚合物，支持复杂结构（如高深宽比沟槽）的台阶覆盖。
7.环境控制：
内置 Class 100 洁净腔室，温度 ±0.1℃，湿度 ±2%，减少颗粒污染对薄膜性能的影响。