SMILE平台设备推介：Nikon NSR-2005I9C全自动步进投影光刻机

 

Nikon NSR-2005I9C 是尼康推出的全自动步进投影光刻机，采用 i-line（365nm）紫外光源，支持 2-8 英寸晶圆的高精度图案转移。设备通过步进式曝光机制，将掩模版图形以 5:1 倍率缩小投影至晶圆表面，分辨率达 0.45μm，适用于化合物半导体、MEMS、LED 及功率器件等成熟制程。其核心技术包括高数值孔径（NA=0.57）投影物镜、120nm 层间对准精度（LSA）和 130nm 场内对准精度（FIA），配合自动化对焦与调平系统，可实现稳定的亚微米级图形复制。该设备兼容 6 英寸掩模版，单次曝光视场 20mm×20mm，具备用户友好界面和高效吞吐量，广泛应用于中小批量生产及研发场景，在MEMS的应用领域包括压力传感器、射频开关的硅基结构图形化。

 

 

1.光源与光学系统
光源：i-line 汞灯，波长 365nm，输出功率稳定，支持长时间连续曝光。
投影物镜：NA=0.57，畸变度≤±10μm，支持 1/5 倍缩小投影，成像分辨率达 0.45μm，满足 0.35μm 制程需求。
照明均匀度：±1.0%（2σ），确保晶圆全域曝光一致性。
2.对准与定位精度
层间对准（LSA）：120nm（3σ），通过激光干涉仪和标记识别实现跨层图形精确叠加。
场内对准（FIA）：130nm（3σ），支持晶圆内不同曝光区域的高精度匹配。
调平与聚焦：自动补偿晶圆翘曲（最大 100μm），聚焦重复性≤60nm（3σ）。
3.工艺兼容性
晶圆尺寸：2/4/6/8 英寸，支持缺口 / 平面定位，兼容多种材料（硅、GaAs、蓝宝石等）。
掩模版：6 英寸，支持镀铬玻璃掩模，最大图案尺寸 150mm×150mm。
曝光模式：步进重复（Step-and-Repeat），单次曝光视场 20mm×20mm，支持多重曝光和相移掩膜技术。
4.吞吐量与稳定性
产能：8 英寸晶圆约 80 片 / 小时（标准工艺），12 英寸晶圆需搭配扩展模块。
环境控制：内置恒温恒湿腔室（±0.1°C）和 Class 1 洁净环境，减少振动与颗粒污染影响。