SMILE平台设备推介：SUSS MA200Gen3全自动接触式光刻机

 

SUSS MA200Gen3 是专为 MEMS 制造设计的全自动接触式光刻机，采用汞灯 365nm 紫外光源，支持 2-8 英寸晶圆及方形衬底的高精度图形转移。设备通过接触式曝光机制（软 / 硬 / 真空接触）实现 0.5-1μm 分辨率，适用于厚胶工艺、3D 结构及先进封装（如扇出封装、凸点封装）。其核心技术包括高数值孔径（NA=0.57）投影物镜、全自动对准系统（±0.5μm 层间精度）及恒温恒湿环境控制，可兼容硅、玻璃、蓝宝石等材料，广泛应用于压力传感器、微流体器件及化合物半导体的量产与研发。

 

1.光源与光学：
汞灯 365nm，光强均匀性 ±1.0%，支持真空接触模式提升分辨率至 0.5μm。
2.对准精度：
层间对准（LSA）±0.5μm，场内对准（FIA）±0.7μm，采用激光干涉仪与标记识别技术。
3.工艺兼容性：
晶圆尺寸 2-8 英寸，支持缺口 / 平面定位；掩模版 6 英寸，最大图案尺寸 150mm×150mm。
4.曝光模式：
接触式（软 / 硬 / 真空）、接近式（间隙 0-300μm），真空接触下分辨率达 0.5μm，接近式≤1μm。
5.处理能力：
8 英寸晶圆产能约 100 片 / 小时，集成自动上下料与多配方存储功能。
6.环境控制：
内置 Class 1 洁净腔室，温度 ±0.1°C，减少颗粒污染与热变形影响。
7.自动化：
SECS/GEM 协议支持工厂集成，兼容远程监控与数据分析。